Magnetisch geschirmter RaumMagnetisch geschirmter Raum für ElektronenmikroskopeMagnetisch geschirmter Raum

Die Forschung beschäftigt sich heute mit mikroskopisch kleinen Teilen, oft sogar mit Abmessungen im Bereich weniger Nanometer. Die dafür verwendeten Geräte reagieren besonders empfindlich auf elektromagnetische Störeinflüsse. Es braucht deshalb entsprechend geschützte Labors in denen solche Störeinflüsse reduziert sind.
Die Felder können mit zwei Techniken reduziert werden: mit magnetischen Abschirmungen oder Kompensationssystemen. Oftmals werden die zwei Techniken auch miteinander kombiniert.
 
 Mit Systron LabShield®, einem auf Mumetall basierendem magnetischen Abschirmsystem, werden ganze Räume oder frei stehende EMF Abschirmkabinen gegen statische, langsam veränderliche und elektromagnetische AC und DC Felder geschützt. Solche Felder werden durch Magnete, Fahrzeuge, Aufzüge und elektrische Komponenten wie Transformatoren, Kabel, Hochspannungsleitungen, Bahnanlagen oder Tram verursacht. 
 
Räume für Elektronenmikroskope oder Lithographie müssen bezüglich magnetischen Störfeldern höchsten Anforderungen genügen. Die von den Mikroskopherstellern definierten Grenzwerte stellen die Betreiber der Mikroskope vor grosse Herausforderungen. Wer an der Weltspitze der Forschung mit dabei sein will, muss die Grenzwerte einhalten, damit eine einwandfrei Funktionsfähigkeit der Mikroskope garantiert ist. Damit die verschiedenen Anforderungen an die Räume erfüllt werden können wurde das Systron LabShield® Abschirmkonzept entwickelt, eine Serie unterschiedlicher Abschirmkonzepte.
 

LabShield®, Magnetfeld-Raumabschirmungs SystemLabShield®. Magnetisch geschirmte Räume.

LabShield® - Modulares Abschirmsystem

Mit dem Systron LabShield® System, einer Serie unterschiedlicher Raumabschirmungssysteme für magnetische Felder, können individuelle Abschirmkonzepte umgesetzt werden. Die Abschirmsysteme berücksichtigen unterschiedliche Fundamentkonzepte, Materialien und Einbauarten und lassen sich an die verschiedenen Raumgrössen adaptieren. 
 
Serie Berlin Serie Zürich Serie Dresden Serie Wien Serie Paris
Mu-metall Abschirmung, Serie BerlinMu-metall Abschirmung. Abschirmung auf Fundament.  Mu-metall Abschirmung, Serie ZuerichMu-metall Abschirmung. Abschirmung unterhalb entkoppeltem Fundament  Mu-metall Abschirmung, Serie DresdenMu-metall Abschirmung. Abschirmung unterhalb festem Fundament.  Abschirmkabine, Mu-metall Abschirmung WienFrei stehende Rahmenkonstruktion Mu-metall Abschirmung, Serie ParisMu-metall Abschirmung. Aktive Kompensation und passiv geschirmter Raum. 
 
Abschirmmaterialien:
Mit dem Systron LabShield® - Raumabschirmungssystem können diese stetig wachsenden und hohen Anforderungen erfüllt werden. Dabei wird das Raumabschirmungssystem individuell auf die bestehenden Anforderungen ausgelegt, entworfen und installiert. Mit der Abschirmung werden im langsamen DC-und AC-Frequenzbereich hervorragende Dämpfungswerte erreicht. Die ausgezeichnete Schirmwirkung wird mit dem Einsatz von termisch behandeltem Nickel Eisen, auch als "Mu-Metall"oder "Permalloy" bezeichnet, erreicht. Mit Mu-Metall sind Schirmfaktoren möglich, welche mit Silizium Eisen (Trafoblech, Elektroblech, Dynamoblech) basierten Lösungen unmöglich zu erreichen sind.
 
Frequenzen:
Abhängig von der notwendigen Dämpfung wird die Materialqualität, Materialstärke und Materialkombination festgelegt. Mit Wahl der Materialien wird auch bestimmt in welchem Freuenzbereich die Schirmung wirken soll. Typische Störfrequenzen: Statisches DC Feld, langsam änderndes DC-Feld "DC Shifts", AC Felder mit typischen niederen Frequenzen, 16.7Hz, 50Hz, Oberwellen, AC Felder mit höheren Frequenzen.
 
Schirmwirkung:
Mit dem Systron LabShield® System kann die Schirmwirkung individuell angepasst werden. Abhängig von der Feldstärke der Störquelle und den geforderten Werten innerhalb des geschirmten Raumes wird die Stärke des Abschirmmaterials, in der Regel des Mumetalles, bestimmt. Für Elektronenmikroskopie Räume wird vielfach ein Abschimfaktor 10-20 festgelegt. Mit entsprechender Wahl der Materialstärke können, niedrigere aber auch weitaus höhere Reduktionsfaktoren erziehlt werden. Mit einer verschachtelten Konstruktion können die Abschirmfaktoren sogar multipliziert werden, was zu sehr hohen Abschirmfaktoren führt.
 
Anwendungen:
Mumetall geschirmte Räume und EMF Abschirmkabinen, aktive Kompensationssysteme:
Magnetisch geschirmter Titan TEM RaumMu-Metall, magnetisch geschirmter Titan TEM Raum
Magnetisch geschirmter Elektronenmikroskopie-RaumMagnetisch geschirmter Elektronenmikroskopie-Raum
TEM Raum, Konzept für magnetische AbschirmungTEM Raum, Konzept für magnetische Abschirmung
TEM Raum mit Fundamenten für MikroskopeTEM Raum mit Fundamenten für Mikroskope
Beispiele: