Montage der Mumetallabschirmung unter Reinraumbedingungen  
Systron LabShield® - DC/AC Magnetfeld-Raumabschirmung für Lithograpie-Schreiber
In einer Fotomasken Produktion müssen Lithographie-Maskenschreiber, sogenannte "Electron Beam Writer",  vor Magnetfeldern geschützt werden, da die Maskenschreiber empfindlich auf magnetische Felder reagieren.
 
Da der komplette Maskenherstellungsprozess in Reinräumen ISO 14644-1, Class 3 stattfindet, muss auch die Abschirmung entsprechend nach Reinraumklasse 3 gefertigt, gereinigt und eingebaut werden. ISO Class 3 definiert z.B. max 35 Partikel in der Grösse 0.5µm (0.5 Mikrometer) pro m3.
Abschirmarbeiten im Reinraum    
Feeder integrierte Abschirmung  
Feeder integrierte Abschirmung
Während sich der Maskenschreiber vollständig innerhalb der Abschirmkammer befindet, können die Maskenrohlinge von aussen über einen Feeder eingebracht werden. Die Feeders sind in die Abschirmung integriert und verschliessen den Raum magnetisch optimal. Mit dieser integrierten Technik bleibt die maximale Abschirmwirkung erhalten, ohne dass der Zugang zum Maskenschreiber behindert wird. Der geschirmte Raum selber wird nur noch für Wartungszwecke geöffnet und betreten.
Dieses in die Abschirmung intergrierte Feeder Prinzip wurde von Systron EMV GmbH entwickelt und gelangt insbesondere in der Halbleiterfertigung zur Anwendung, wo höchste Anforderungen an Abschirmwirkung, Reinraumqualität und Zugänglichkeit gefordert sind.
Feeder integrierte Abschirmung    

 

Unterkonstruktion Systron LabShield®   Installation Magnetfeldabschirmung im Reinraum   Magnetisch geschirmter Raum in Reinraumqualität   Magnetfeldmessungen im Reinraum   Magnetically shielded room, Mu-metal, Permalloy
Prinzip der Unterkonstruktion für Systron LabShield® Abschirmung   Installation der Abschirmung im Reinraum   Abschirmkammer fertig geschirmt   Messung der Schirmwirkung   "Magnetic Shielding" Plakette als Hinweis für die Raumabschirmung